2007年4月24日、最先端プロセス向けDFMソリューションを提供する米Takumi Technology社は、ルネサステクノロジがTakumiのレイアウト自動最適化ツールを65nmテクノロジ向けに量産展開した事を発表した。プレスリリース

発表によるとTakumiとルネサスは技術協力を通じ、ファブでの欠陥情報、ファブ特有のリソグラフィ設定、デザインルールを考慮した、物理レイアウトの自動最適化システムを開発。そのシステムを利用する事によって、歩留まりの改善されたセルレイアウトを自動生成するフローを構築した。

また、そのプロセスから得た知識を活用し、多大な時間とコストを要するセルライブラリの更新作業の自動化も実現しており、今回、90nmから65nmプロセスへと移行するにあたり開発したレイアウト自動最適化システムを展開。新たなセルライブラリの作成については、開発生産性にして3倍以上の改善を実現しているという。

TakumiのDFMソリューションは、実際の製造データを用いてGDSII上のレイアウト・ホットスポットを自動修復するというもので、設計時にその正しさが実証された、デザインルール違反の無い高品質なGDSIIデータを生成することができる。

※記事提供：EDA Express

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