2007年2月26日、大日本印刷と米巧テクノロジー社は、フォトマスクの自動検査システムの共同開発を開始した事を発表した。プレスリリース

発表によると両社が共同開発するのは、半導体メーカーの求める品質精度のレベルに応じてフォトマスクの検査および欠陥分類を自動的に行うシステムで、フォトマスクの歩留まり向上と検査コストの削減を狙ったもの。

これまでのフォトマスク検査は、品質を重視し全面検査・全面無欠陥が追求され、性能への影響に関わらず欠陥があれば全て欠陥品として扱われていた。しかし、欠陥によっては性能に影響を及ぼさないものもあるため、予め検査精度を決めておけば無駄な検査を省き、これまで欠陥品とされていたフォトマスクも利用できるようになる。

今回の両社が開発するシステムでは、半導体メーカーに無欠陥の品質が必要な部分、性能に影響が無いもしくは低い部分など、フォトマスクの部分ごとに精度要求のランク付けを行ってもらい、その情報と巧テクノロジーのフォトマスク検査ソフトウエア『design driven defect analyzer』の結果を重ね合わせることで、精度要求に合わせた検査を自動的に行う形をとる。

両社は、この自動検査システムを2008年3月までに開発する予定で、完成されたシステムはDNPによって半導体メーカーに無料で提供されるという。

※記事提供：EDA Express

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