発表によると両社が共同開発するのは、半導体メーカーの求める品質精度のレベルに応じてフォトマスクの検査および欠陥分類を自動的に行うシステムで、フォトマスクの歩留まり向上と検査コストの削減を狙ったもの。これまでのフォトマスク検査は、品質を重視…
引用をストックしました
引用するにはまずログインしてください
引用をストックできませんでした。再度お試しください
限定公開記事のため引用できません。
