2007-03-23から1日間の記事一覧

米KLA-Tencor、45nm以降のフォトマスク量産に対応した検査装置「TeraScanHR」を発表

2007年3月15日、ウェーハ検査装置の大手米KLA-Tencor社は、45nm以降のフォトマスク量産に対応した検査装置の新製品「TeraScanHR」を発表した。プレスリリース既に多数のシステムを出荷し、45nmの試作/32nmの開発用途でも受注を獲得しているという「TeraScanH…

2007年3月21日、バーチャル・システム・プロトタイピング環境を手掛ける米VaST Systems Technology社は、同社のパートナープログラムにSystemCサービス・プロバイダの米ESLX社が加わった事を発表した。プレスリリース(英文)

ESLXは、テキサス州オースチンに本拠を置くSystemCを中心としたESLメソドロジのコンサルティング会社で、設立は2003年。設立当初の社名は「EklectICally Inc」であったが、2005年に現在の「ESLX」に社名変更している。現在ESLソリューションを手掛ける計17社…