2008年10月8日、ケイデンスは、22nmノード以降をターゲットとしたSMOのための新技術を発表した。

※SMO：Source-Mask Optimization（マスク形状と光源の照度を同時に最適化する手法）

プレスリリース：
http://www.cadence.com/cadence/newsroom/press_releases/Pages/pr.aspx?xml=100808_tessera（英文）

発表によると、「Optimized custom litho source illumination」と呼ばれる新技術は、エレクトロニクス製品の小型化技術を手掛ける米Tessera Technologies社との共同開発によって生み出されたもので、ケイデンスのRETフローにインテグレーションされ、プロセスウィンドウ下での二次元レイアウト構造の転写を強化。パターンに忠実でより正確なリソグラフィを実現しイールド向上に貢献するという。

※日本ケイデンス・デザイン・システムズ社
http://www.cadence.co.jp

※Tessera Technologies社
http://www.tessera.com/JP

※記事提供：EDA Express