2008-10-09から1日間の記事一覧

2008年10月8日、ケイデンスは、22nmノード以降をターゲットとしたSMOのための新技術を発表した。

※SMO:Source-Mask Optimization(マスク形状と光源の照度を同時に最適化する手法)プレスリリース: http://www.cadence.com/cadence/newsroom/press_releases/Pages/pr.aspx?xml=100808_tessera(英文)発表によると、「Optimized custom litho source ill…