メンター、UMCの先端65nmプロセスで「Calibre nmDRC」を使った物理検証フローの精度を実証

2008年5月8日、メンター・グラフィックス社は、台湾UMCと協力し「Calibre nmDRC」を使ったUMCの65nm物理検証フローの精度を実証したことを発表した。

プレスリリース：http://www.mentorg.co.jp/news/2008/080508.html

発表によると、メンターとUMCの両社は、UMCの先端65nmプロセスを使った顧客製品をテスト・データとして物理検証フローの精度を評価。その結果、UMCの65nm Calibreルールデックはこのノードに対するデザイン・ルールマニュアルを正確に反映していることを確認。「Calibre nmDRC」を使う事でUMCの65nmプロセスを用いたチップの製造可能性を高精度で検証できることを実証した。

「Calibre」は、UMCの顧客から高く評価されており、UMCの新しいテクノロジ・ノードに常にいち早く対応。UMC社内の開発グループでも使用されており、包括的なEDAおよび設計サポート・リソースが含まれているUMCの「Foundry SoC Solutions」の一部として提供されている。

※メンター・グラフィックス・ジャパン株式会社
※UMC
※記事提供：EDA Express