TOOL、フラクチャリングシステム「MaskStudio」をバージョンアップ〜フォーマット変換の更なる高速化を追及

EDA関連ニュース

2008年4月9日、レイアウト表示プラットフォーム「LAVIS」を手掛ける、日本のEDAベンダTOOLは、同社のフラクチャリングシステム「MaskStudio」のバージョンアップを発表した。

プレスリリース：http://www.tool.co.jp/NewsItem/Lavis/News20080409Jp/

「MaskStudio」は、レイアウト設計データを各種マスク描画装置フォーマットに変換するためのフラクチャリングシステムで、最新の「MaskStudio Ver.７」では、描画データ変換の高速処理に加えてレイアウト設計データの入力部を高速化し、フォーマット変換の大幅なTAT短縮を実現。更に、台形分割手法によって更に精度が高められたほか、同社の旗艦製品「LAVIS」と連動したPreview機能も強化された。

新しい「MaskStudio Ver.７」は、4月16日よりパシフィコ横浜で開催されるPhotomask Japan 2008にて、TOOL社ブースで展示される予定となっている。

※TOOL株式会社
※記事提供：EDA Express