2008-06-04から1日間の記事一覧

TOOLのレイアウト表示プラットフォームとKLA-TencorのOPC/RET最適化ツールが統合

2008年5月28日、レイアウト表示プラットフォーム「LAVIS」を手掛ける日本のEDAベンダTOOL社は、KLA-Tencor社の「LithoWare」とTOOLのレイアウト表示プラットフォーム「LAVIS」との統合環境を発表した。プレスリリース:http://www.tool.co.jp/NewsItem/Lavis…

インターコネクトIPのSONICSがJEDAのOCPチェッカを採用

2008年5月28日、SystemCのアサーション・ベース検証環境を手掛ける、米JEDA Technologiesと高速インターコネクトIPの米SONICSは、両社の製品コラボレーションを発表した。プレスリリース:http://www.sonicsinc.com/index.php?page=295発表によると、今回SON…

2008年5月28日、メンター・グラフィックスは、STマイクロエレクトロニクスが「Calibre DFM」プラットフォームを採用したことを発表した。

プレスリリース:http://www.mentorg.co.jp/news/2008/080528.htmlメンターの発表によるとSTマイクロは、65ナノメータ以降の製造ばらつきの制御を目的とした自社の「Litho Variability Analysisソリューション」にメンターの「Calibre LFD(Litho-Friendly-D…