米eSilicon、65nm設計向けにマグマのDFMツール「Blast Yield TX」を採用

2007年12月3日、カスタムICのファブレスメーカー大手の米eSilicon社は、65nm設計向けにマグマのDFMツール「Blast Yield TX」を採用した事を発表した。

eSiliconは、元々マグマのインプリメンテーションツールをベースに設計フローを構築しており、今回65nmプロセスへの移行に伴いマグマの「Blast Yield TX」を追加採用。65nmプロセスでより顕著になる歩留まり低下の問題に対応した。

「Blast Yield TX」は、TSMC 65nmプロセスのデザインをターゲットとしたモデルベースのDFMツールで、仮想CMPシミュレーションとLPCモデル（Lithography Process Control model）を用いてファウンドリ精度でイールドを最適化。マグマのインプリメンテーションツールと融合して歩留まり向上を実現する。

※「Blast Yield TX」に関する詳細は、、マグマ・デザイン・オートメーション株式会社にお問い合わせ下さい。
※eSilicon社
※記事提供：EDA Express