2007年10月25日、マスクデータの最適化ツールおよびDFMツールを手掛ける、米Sagantec社は、リソグラフィ・ホットスポットの自動修正に関するTSMCとのコラボレーションを発表した。プレスリリース（英文）

Sagantecの「DFM-Fix」は、ライブラリ、メモリ、IP、カスタム・ブロックなどあらゆるデザインレベルのクリティカルレイヤにおいて、ホットスポットの自動修正が可能。メモリとカスタム・ブロックのクリティカルレイヤで発見されるホットスポットなど、ルーティングのレベルでは解決できないホットスポットの修正に対応する事ができる。

Sagantecによると今回TSMCは、バックエンド作業のTAT短縮に向けてSagantecのホットスポット自動修正ツール「DFM-Fix」をテスト。複数の実デザインを用いて様々なマスク層でホットスポットの自動修正が可能かどうかチェックしたところ、全てのケースで95％以上の自動修正を実現。標準的なクアッドCPUプラットフォームを用いて、全ての処理を3時間以内で完了した。

TSMCはこの結果を高く評価し、自社フローへの「DFM-Fix」のインテグレーションに向けてSagantecとのコラボレーションを進めていくという。

※「DFM-Fix」に関する詳細は、サガンティック・ジャパンにお問い合わせ下さい。
※TSMC社
※記事提供：EDA Express