「Photomask Japan」は、ホトマスク及びNGLマスクに関する技術の国際会議で、今年は3日間で計15の技術セッションが行われる予定。中には、OPC、RET、MDP、SimulationなどEDAツールの関わる論文発表も含まれている。併催する技術展示会には、加工・検査装置メ…